特許
J-GLOBAL ID:200903004523580338

EL素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-178749
公開番号(公開出願番号):特開2001-006875
出願日: 1999年06月24日
公開日(公表日): 2001年01月12日
要約:
【要約】【課題】 大面積のEL素子が製造できる方法であって、塗布液の使用効率が高く、層厚が均一であり、高速生産が可能で、簡便な製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも、基体と、該基体上に形成された第1電極と、該第1電極上に形成されたEL層と、該EL層上に形成された第2電極からなるEL素子の製造方法であって、前記第1電極、前記EL層および前記第2電極の少なくとも1層を塗布によって形成する方法であり、この塗布が前記基体または塗布装置を移動させながら塗布液に接触させる、EL素子の製造方法。
請求項(抜粋):
少なくとも、基体と、該基体上に形成された第1電極と、該第1電極上に形成されたEL層と、該EL層上に形成された第2電極からなるEL素子の製造方法であって、前記第1電極、前記EL層および前記第2電極の少なくとも1層を塗布によって形成する方法であり、この塗布が前記基体を搬送させながら塗布液に接触させる方法を用いることを特徴とする、EL素子の製造方法。
IPC (2件):
H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (2件):
H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Fターム (14件):
3K007AB00 ,  3K007AB03 ,  3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BA07 ,  3K007CA01 ,  3K007CA05 ,  3K007CA06 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01
引用特許:
審査官引用 (2件)

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