特許

J-GLOBAL ID：200903004534419857

薄膜ヘッドスライダの加工方法及び加工装置

発明者： 権田 一久 ,  杉山 友一 ,  鈴木 健太郎
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 綿貫 隆夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-181930
公開番号（公開出願番号）：特開2000-011327
出願日： 1998年06月29日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】 ウエハの表面に形成したプロセス膜を均一のラップ、ポリッシュ加工して、高密度記録が可能な薄膜ヘッドスライダを提供する。【解決手段】 加工定盤10を用いてウエハ12の表面に形成したプロセス膜にラップあるいはポリッシュ加工を施す薄膜ヘッドスライダの加工方法において、前記ウエハ12の表面の曲面形状を測定し、その測定結果に基づき、前記ウエハ12の表面の曲率に合致する曲率の加工面を有する加工定盤10を選択使用して前記ウエハ12にラップあるいはポリッシュ加工を施す。

請求項（抜粋）：

加工定盤を用いてウエハの表面に形成したプロセス膜にラップあるいはポリッシュ加工を施す薄膜ヘッドスライダの加工方法において、前記ウエハの表面の曲面形状を測定し、その測定結果に基づき、前記ウエハの表面の曲率に合致する曲率の加工面を有する加工定盤を選択使用して前記ウエハにラップあるいはポリッシュ加工を施すことを特徴とする薄膜ヘッドスライダの加工方法。

IPC (2件)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/127

FI (2件)：

G11B 5/31 M ,  G11B 5/127 Q

Fターム (6件)：

5D033BB14 ,  5D033DA01 ,  5D033DA21 ,  5D093AC08 ,  5D093FA22 ,  5D093FA26

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 薄膜磁気ヘッドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-227847   出願人：ソニー株式会社
• 薄膜磁気ヘッドのデプス研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-051605   出願人：ソニー株式会社