特許
J-GLOBAL ID：200903004553948992
両面露光装置
出願人/特許権者：
有限会社岡本技研
有限会社岡本技研 について
代理人 (1件)： 吉川 晃司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-345272
公開番号（公開出願番号）：特開2000-171980
出願日： 1998年12月04日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：
【要約】【課題】基板材の両面を露光するのに1つの光源を切り替えて使用する方式の従来の両面露光装置では、露光時間が長くなると、機械的動作部の露光準備動作が全て完了しても、一方の露光面に対する露光が終了しないうちは他方の露光面に対する露光を開始することができず、これがロスタイムになってしまう。【解決手段】基板材Pを保持して露光マスク55に対向させるためのワーク保持ベースを、一方の露光面に対する露光に専用のもの21Lと、他方の露光面に対する露光に専用のもの21Rと2つ設けた。このようにすれば、未露光の基板材の受取りや移送と露光及びその事前処理等の動作位相と、片面露光済みの基板材の移送や露光及びその事前処理等の動作位相とをずらせることができるので、光源が1つでも、露光待ちのロスタイムが生じるのを防止できる。
請求項（抜粋）：
被露光板の表裏両露光面を所要の露光パターンが形成された露光マスクを通して露光する両面露光装置であって、被露光板の一方の露光面に対する露光に用いる露光マスクが取り付けられる第一のマスク保持機構と、この第一のマスク保持機構に対向した露光位置と未露光の被露光板を受け取るホーム位置との間を移動する第一のワーク保持ベースとを有した第一の処理部と、被露光板の他方の露光面に対する露光に用いる露光マスクが取り付けられる第二のマスク保持機構と、この第二のマスク保持機構に対向した露光位置と両面露光済みの被露光板を取り外されるホーム位置との間を移動する第二のワーク保持ベースとを有した第二の処理部と、第一の処理部で露光された被露光板を受け取ったのち第二のワーク保持ベースに他方の露光面を露光し得る向きで乗せ替えるためのワーク乗替え手段と、1つの光源と、この光源からの光の光路を第一の処理部に向かう光路と第二の処理部に向かう光路に選択的に切り替える光学系とを備えたことを特徴とする両面露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
引用特許：
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