特許
J-GLOBAL ID：200903004558349680
汚水中の有機汚濁物質の除去方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鴨田 朝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-146316
公開番号（公開出願番号）：特開2001-321788
出願日： 2000年05月18日
公開日（公表日）： 2001年11月20日
要約：
【要約】【課題】 紫外線の照射量を変化させることで、供給したオゾンから効率よくヒドロキシルラジカルを生成させ、汚水中の有機汚濁物質を短時間にかつ経済的に除去する。【解決手段】 被処理水にオゾン接触下で、紫外線を照射する汚水処理において、紫外線の照射条件の制御により、酸化還元電位値を一定範囲内にする。前記酸化還元電位値を、紫外線照射の無い状態でかつオゾン接触下で示す酸化還元電位値の75〜95%となるように、紫外線の照射条件を制御することが望ましい。さらに、85〜90%となるように、紫外線の照射条件を制御することが望ましい。この方法により、被処理水中の溶存オゾンが変化して得られるヒドロキシルラジカルの量を、最適に制御することができる。
請求項（抜粋）：
被処理水にオゾン接触下で、紫外線を照射する汚水処理において、紫外線の照射条件の制御により、酸化還元電位値を一定範囲内にすることを特徴とする汚水中の有機汚濁物質の除去方法。
IPC (4件)：
C02F 1/78 ZAB
, C02F 1/32
, C02F 1/72 101
, C07D319/24
C02F 1/78 ZAB
, C02F 1/32
, C02F 1/72 101
, C07D319/24
4D037AA11
, 4D037AB14
, 4D037BA18
, 4D037CA03
, 4D037CA12
, 4D050AA12
, 4D050AB19
, 4D050BB02
, 4D050BC09
