紫外線による排水の処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-113871
公開番号（公開出願番号）：特開平10-034171
出願日： 1997年05月01日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、排水中に含まれるCOD成分やBOD成分あるいは更に色度成分を迅速に酸化して、処理水質を向上するとともに、処理コストを従来の方法より削減できる紫外線照射プロセスを提供することにある。【解決手段】反応槽において排水に紫外線を照射して排水を処理する方法において、反応槽の溶存酸素(DO)を制御する。反応槽において半導体粉末を用いエアレーションを行いながら排水に紫外線を照射して排水を処理する方法において、溶存酸素(DO)を2mg/l以上に保つとともに反応槽のpHを7以下に制御する。

請求項（抜粋）：

反応槽において排水に紫外線を照射して排水を処理する方法において、反応槽の溶存酸素(DO)を制御することを特徴とする排水の処理方法。

IPC (6件)：

C02F 1/72 101 , C02F 1/72 , B01J 35/02 , C02F 1/32 ZAB , C02F 1/76 , C02F 1/78

FI (6件)：

C02F 1/72 101 , C02F 1/72 Z , B01J 35/02 J , C02F 1/32 ZAB , C02F 1/76 Z , C02F 1/78

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開昭60-118289
特開平4-114667
特開平1-119394

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