特許
J-GLOBAL ID：200903004572030343

表面検査装置および方法

発明者：
深澤 和彦

深澤 和彦 について

, 
大森 健雄

大森 健雄 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大西 正悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-370695
公開番号（公開出願番号）：特開2002-162368
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：
【要約】【課題】 ウエハ表面の回路パターンピッチが分からない状態で最適装置条件を正確且つ簡単に求める。【解決手段】 ウエハ100に検査用照明光を照射する照明光学系10と、ウエハからの回折光を受けてウエハを撮像するCCDカメラ30と、得た画像信号からウエハの表面検査を行う画像処理検査装置35と、ウエハのチルト角を変更させる装置とを有して表面検査装置が構成される。画像処理検査装置35は、チルト角を変更させながら、照明光学系10からウエハ100に検査用照明光を照射してCCDカメラ30により撮像し、得られたウエハの画像におけるチルト角の変化に対応する画像変化に基づいて、ウエハの表面検査を行うための最適装置条件を求める。
請求項（抜粋）：
表面に複数の異なるピッチの繰り返しパターンが形成された被検物体を照明する照明手段と、前記被検物体からの回折光に基づく物体像を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により前記物体像を撮像する際の装置条件を設定または変更する条件制御手段と、前記条件制御手段による前記装置条件の変更時に前記撮像手段により撮像される前記物体像の画像を取り込み、その画像に基づいて前記パターンを検査するための前記装置条件の最適条件を決定する条件決定手段とを有し、前記条件決定手段は、前記複数の異なるピッチの繰り返しパターンのそれぞれによる回折光に基づく前記物体像の画像を取り込み、前記繰り返しパターンに対応する前記装置条件の最適条件を決定することを特徴とする表面検査装置。
IPC (6件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  G02F 1/13 101 ,  G06T 1/00 305 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66
FI (6件)：
G01N 21/956 A ,  G01B 11/30 A ,  G02F 1/13 101 ,  G06T 1/00 305 A ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 V
Fターム (63件)：
2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065BB18 ,  2F065CC19 ,  2F065CC25 ,  2F065FF42 ,  2F065FF48 ,  2F065FF65 ,  2F065GG03 ,  2F065HH03 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL19 ,  2F065LL22 ,  2F065LL24 ,  2F065LL26 ,  2F065NN18 ,  2F065NN19 ,  2F065NN20 ,  2F065PP01 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ38 ,  2G051AA51 ,  2G051AB07 ,  2G051BA08 ,  2G051BB11 ,  2G051BB15 ,  2G051BB17 ,  2G051CA04 ,  2G051CB06 ,  2G051EA08 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2H088FA11 ,  2H088FA16 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB07 ,  4M106DB13 ,  4M106DB15 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ13 ,  4M106DJ21 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057BA15 ,  5B057BA19 ,  5B057BA29 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DC22
引用特許：
審査官引用 (4件)
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