特許
J-GLOBAL ID：200903004623183565
プラズマ処理方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
渡辺 昇
, 原田 三十義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-159600
公開番号（公開出願番号）：特開2009-035724
出願日： 2008年06月18日
公開日（公表日）： 2009年02月19日
要約：
【課題】連続フィルム状又は連続シート状の基材をロール電極でプラズマ処理する際、折り返し用部材との接触で被処理面が損傷したりパーティクルが発生したりするのを防止する。【解決手段】一対のロール電極20どうしの間に放電空間となるギャップ21を形成する。基材90を、一方のロール電極20Lの上側部分に巻き付けるとともに、ギャップ21に通してそこより下方においてループ状に曲げ、再び前記ギャップ21に通して他方のロール電極20Cの上側部分に巻き付けた状態で、ロール電極20どうしを互いに同方向に回転させる。基材90のループ状曲げ部分91をフリー状態とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
連続するフィルム状又はシート状の基材を放電空間でプラズマ処理する方法であって、
互いの間に前記放電空間となるギャップを形成する一対のロール電極を用意し、
前記基材を、その被処理面が表側になるようにして一方のロール電極の周面の一側に巻き付けるとともに、前記ギャップに通してギャップより前記巻き付け側とは反対側においてループ状に曲げ、再び前記ギャップに通して他方のロール電極の周面の前記一方の電極と同じ側に巻き付けた状態で、前記ロール電極どうしを互いに同方向に回転させ、しかも、前記ループ状曲げ部分の少なくとも被処理面の全体をフリー状態としたことを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
Fターム (16件)：
4F073AA01
, 4F073AA02
, 4F073AA05
, 4F073AA06
, 4F073AA07
, 4F073BA03
, 4F073BA07
, 4F073BA08
, 4F073BA24
, 4F073BA31
, 4F073BB01
, 4F073CA01
, 4F073CA04
, 4F073CA07
, 4F073CA08
, 4F073CA09
