特許
J-GLOBAL ID：200903041354343995

プラズマ放電処理装置、プラズマ放電処理方法、その方法で製造された薄膜及び積層体、及び光学フィルム、光学フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置

発明者：
村上 隆

村上 隆 について

, 
福田 和浩

福田 和浩 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-361847
公開番号（公開出願番号）：特開2004-189958
出願日： 2002年12月13日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：
【課題】真空装置、高温処理が不要で、また窒素のような安価かつ安全な反応ガスを用いても、広幅の基材を高速連続処理ができ、高生産性を有する薄膜を形成する装置、均一薄膜の多層積層体を形成する方法、この方法で形成した薄膜積層体の光学フィルム、これを用いた偏光板及び画像表示装置を提供すること。【解決手段】第1、第2の電極を有する一対の対向電極と放電部を有し、該放電部において該対向電極の一方の電極に近い側を通過しながら処理された基材が、再びもう一方の電極に近い側を通過しながら放電部に搬送され、該放電部において往復して通過する該基材の間に大気圧またはその近傍の圧力の反応ガスを供給する手段を有し、かつ第1、第2の電極に異なる高周波電圧成分を印加することを特徴とするプラズマ放電処理装置。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
連続的に移送する基材の表面を大気圧もしくはその近傍の圧力下でプラズマ放電処理するプラズマ放電処理装置であって、少なくとも第1の電極と第2の電極を有する一対の対向電極と、該対向電極の間に形成される放電部を有し、該放電部において該対向電極の一方の電極に近い側を通過しながら処理された該基材が、折り返し移送手段により再び該対向電極のもう一方の電極に近い側を通過しながら該放電部に搬送され、該放電部において往復して通過する該基材の間に大気圧またはその近傍の圧力の反応ガスを供給する手段を有し、かつ該第1の電極と第2の電極にそれぞれ周波数ω1の高周波電圧成分と周波数ω2の高周波電圧成分を印加することによってプラズマ放電を発生させる手段を有することを特徴とするプラズマ放電処理装置。
IPC (1件)：
C08J7/00
FI (2件)：
C08J7/00 306 ,  C08J7/00
Fターム (13件)：
4F073AA01 ,  4F073BA03 ,  4F073BA06 ,  4F073BA14 ,  4F073BA17 ,  4F073BA18 ,  4F073BA23 ,  4F073BA26 ,  4F073BA27 ,  4F073BA29 ,  4F073BA32 ,  4F073BB01 ,  4F073CA07
引用特許：
審査官引用 (7件)
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