プラズマ放電処理装置、プラズマ放電処理方法、その方法で製造された薄膜及び積層体、及び光学フィルム、光学フィルムを用いた偏光板及び表示装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-345908
公開番号（公開出願番号）：特開2003-171770
出願日： 2001年11月12日
公開日（公表日）： 2003年06月20日
要約：

【要約】【課題】高速、高生産性を有する基材表面に薄膜を形成する装置、安価に多層の薄膜を均一に形成出来る方法、均一の厚さの薄膜積層体または光学フィルム、更に性能の優れた偏光板または画像表示装置を提供する。【解決手段】対向回転電極の一方の電極に接して通過させた基材が、対向回転電極の間に形成する放電部において、大気圧もしくはその近傍の圧力下、及び供給された反応ガスの存在下でプラズマ放電処理され、該基材が折り返してもう片方の回転電極に接しながら放電部に移送されて往復し同一基材面が再び処理される大気圧またはその近傍の圧力で処理するプラズマ放電処理装置、及びそれを使用して薄膜を形成した光学フィルム。

請求項（抜粋）：

連続的に移送する基材の表面を大気圧もしくはその近傍の圧力下でプラズマ放電処理するプラズマ放電処理装置であって、少なくとも一対の対向電極と該対向電極の間に形成される放電部を有し、該放電部において該対向電極の一方の電極に接しながら該放電部を通過し処理された該基材が再び該対向電極のもう一方の電極に接しながら該放電部に移送するための折り返し移送手段を有し、該放電部において往復して通過する該基材の間に大気圧またはその近傍の圧力の反応ガスを供給する手段及び処理後の排ガスを排出する手段を有し、且つ該対向電極間に電圧を印加してプラズマ放電を発生させる手段を有することを特徴とするプラズマ放電処理装置。

IPC (4件)：

C23C 16/509 , G02B 1/10 , G02B 1/11 , G02B 5/30

FI (4件)：

C23C 16/509 , G02B 5/30 , G02B 1/10 A , G02B 1/10 Z

Fターム (25件)：

2H049BA02 , 2H049BB13 , 2H049BB33 , 2H049BB63 , 2H049BC01 , 2H049BC05 , 2H049BC09 , 2K009AA02 , 2K009AA07 , 2K009AA15 , 2K009CC03 , 2K009CC26 , 2K009CC42 , 2K009DD17 , 2K009EE03 , 2K009EE05 , 4K030AA11 , 4K030CA12 , 4K030FA03 , 4K030GA14 , 4K030JA03 , 4K030JA06 , 4K030JA18 , 4K030KA16 , 4K030KA30

引用特許：

審査官引用 (4件)

防汚性反射防止積層体およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-298900 出願人：凸版印刷株式会社
反射防止フィルム
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-148806 出願人：大日本印刷株式会社
特開平3-183782

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