特許

J-GLOBAL ID：200903004630050244

感光性化合物およびこれを含むフォトレジスト組成物

発明者： イ チェウ ,  イ ジュンユル ,  キム ジョンシク ,  チャン ウヂェン ,  キム チェヒュン
出願人/特許権者： ドンジン セミケム カンパニー リミテッド
代理人 (2件)： 森田 憲一 ,  山口 健次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-150520
公開番号（公開出願番号）：特開2008-303221
出願日： 2008年06月09日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：

【課題】超微細フォトレジストパターンを形成することができる感光性化合物およびこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 前記感光性化合物は下記反応工程式3に示すように、下記化学式の構造を有する。 前記化学式において、xは1から5の定数であり、yは2から6の定数であり、Rは炭素数2から20の炭化水素基である。 前記フォトレジスト組成物は、前記化学式の構造を有する感光性化合物1から85重量%と、前記化学式で示される化合物の水酸基(-OH)と反応して前記化学式で示される感光性化合物と結合する化合物1から55重量%と、光酸発生剤1から15重量%、および有機溶媒12から97重量%を含む。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記化学式1の構造を有する感光性化合物。

IPC (5件)：

C07C 65/24 ,  C07C 69/42 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

C07C65/24 ,  C07C69/42 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AD01 ,  2H025BD01 ,  2H025BE07 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB76 ,  4H006BJ50 ,  4H006BP30 ,  4H006BS10

引用特許：

審査官引用 (11件)

• パターン形成材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-237462   出願人：松下電器産業株式会社
• セルロースアシレートフィルム、該フイルムを用いた光学フィルム及び画像表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-136047   出願人：富士写真フイルム株式会社
• セルロースアシレートフィルム、該フイルムを用いた光学フィルム、及び画像表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-183909   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 特開平3-277625
  
• 特開平2-311527
  
• 高分子化合物及びその製造方法、成形体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-180555   出願人：富士ゼロックス株式会社
• 新規芳香族ジオール化合物及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-302344   出願人：帝人株式会社
• 特開平3-277625
  
• 特開平2-311527
  
• ポジ型感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-331249   出願人：東レ株式会社
• ネガ型ホトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-028828   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

引用文献：

審査官引用 (3件)

• Bioorganic and Medicinal Chemistry, 1998, 6(8), 1347-1378
• Polymer Journal (Tokyo), 2000, 32(3), 234-242
• Bioorganic and Medicinal Chemistry, 1998, 6(8), 1347-1378