特許
J-GLOBAL ID：200903054687618376

ネガ型ホトレジスト組成物

発明者：
ウェンジー・リー

ウェンジー・リー について

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プシュカラ・アール・ヴラナシー

プシュカラ・アール・ヴラナシー について

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アリッサンドレア・エイチ・ハマド

アリッサンドレア・エイチ・ハマド について


出願人/特許権者：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション について


代理人 (3件)： 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-028828
公開番号（公開出願番号）：特開2005-222059
出願日： 2005年02月04日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】 ホトリソグラフィ用途において空間的解像度の制限を回避するために、露光されたホトレジストが現像液に溶解するときに膨潤および/またはミクロブリッジングされないネガ型ホトレジストを提供する。【解決手段】 組成物は、放射感受性酸発生剤、添加剤、およびヒドロキシ基を含む少なくとも第一モノマーに由来するレジストポリマーを含む。第一モノマーは、酸性またはほぼ中性pHでありうる。レジストポリマーは、さらに、水性塩基可溶性部位を有する第二モノマーに由来しうる。添加剤は、N-アルコキシメチル基で代表される部位を持ち、1以上の脂環式構造を含みうる。酸発生剤は、放射線で露光されて酸を発生するように適合される。レジストポリマーは、酸の存在下に添加剤と化学的に反応して、水性アルカリ性現像液に不溶性である非架橋性生成物を発生するように適合される。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(a)放射感受性酸発生剤、 (b)構造:
IPC (4件)：
G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (13件)：
2H025AA02 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (4件)
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