特許
J-GLOBAL ID:200903004774768271
イオン源、システム及び方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
杉村 憲司
, 澤田 達也
, 冨田 和幸
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-543311
公開番号(公開出願番号):特表2009-517838
出願日: 2006年11月15日
公開日(公表日): 2009年04月30日
要約:
イオン源、システム及び方法を開示するものである。
請求項(抜粋):
20個以下の原子を具える末端棚を有する導電性先端を含むイオン源を具えることを特徴とするイオン顕微鏡。
IPC (3件):
H01J 27/26
, H01J 37/08
, H01J 37/28
FI (3件):
H01J27/26
, H01J37/08
, H01J37/28 Z
Fターム (2件):
引用特許:
審査官引用 (9件)
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特開平2-087440
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エミッタ製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-253524
出願人:日本電子株式会社
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特開平3-266336
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イオンビーム装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-184340
出願人:日本電子株式会社
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特開平2-186545
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特開平2-061941
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特開昭63-083265
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特開昭62-114226
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特開昭63-045740
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