特許
J-GLOBAL ID：200903004974277590

フォトマスク及びそれを用いて製造したカラーフィルタ基板

発明者：
松政 健司

松政 健司 について

, 
安原 寿二

安原 寿二 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-147886
公開番号（公開出願番号）：特開2009-294433
出願日： 2008年06月05日
公開日（公表日）： 2009年12月17日
要約：
【課題】ハーフトーン型フォトマスクを用いプロキシミティー露光方式によりフォトスペーサと線幅の異なる部分を有する配向制御用突起とをカラーフィルタ基板上に一括形成にて形成する場合、前記配向制御用突起部分に付加される別の突起であって線幅が11μm以下の突起部位が溶出してしまい、ほとんど解像できないという問題があった。【解決手段】ハーフトーンフォトマスクのフォトスペーサに対応する部位が光透過性について非透過、配向制御用突起に対応する部位が光透過性について半透過であって、前記半透過の部位が全透過の部位を含むことを特徴とするハーフトーンフォトマスクであり、このフォトマスクを用いて露光・現像して製造したフォトスペーサ及び配向制御用突起を備えたカラーフィルタ基板である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プロキシミティー露光方式を用いるフォトリソグラフィー法により、フォトスペーサ及び異なる線幅を有する配向制御用突起をカラーフィルタ基板上に一括形成にて形成する際に用いるハーフトーンフォトマスクにおいて、前記ハーフトーンフォトマスクのフォトスペーサに対応する部位が光透過性について非透過、配向制御用突起に対応する部位が光透過性について半透過であって、前記半透過の部位が全透過の部位を含むことを特徴とするハーフトーンフォトマスク。
IPC (4件)：
G02F 1/133 ,  G02F 1/136 ,  G03F 1/08 ,  G02B 5/20
FI (6件)：
G02F1/1337 ,  G02F1/1339 500 ,  G02F1/1368 ,  G03F1/08 L ,  G02F1/1335 505 ,  G02B5/20 101
Fターム (52件)：
2H048BB02 ,  2H048BB08 ,  2H048BB12 ,  2H048BB42 ,  2H090HA11 ,  2H090HA15 ,  2H090HC12 ,  2H090HC13 ,  2H090HD14 ,  2H090JA03 ,  2H090JB02 ,  2H090KA07 ,  2H090KA18 ,  2H090LA02 ,  2H090LA15 ,  2H090MA01 ,  2H090MA02 ,  2H090MB14 ,  2H092MA14 ,  2H092NA27 ,  2H092PA08 ,  2H092QA09 ,  2H095BA03 ,  2H095BB36 ,  2H095BC05 ,  2H189DA08 ,  2H189EA06X ,  2H189FA16 ,  2H189FA19 ,  2H189HA14 ,  2H189HA16 ,  2H189JA10 ,  2H189JA12 ,  2H189JA14 ,  2H189LA10 ,  2H189LA14 ,  2H191FA02Y ,  2H191FA16Y ,  2H191FB04 ,  2H191FB22 ,  2H191FC10 ,  2H191FC36 ,  2H191FD04 ,  2H191GA08 ,  2H191GA11 ,  2H191GA19 ,  2H191HA11 ,  2H191HA13 ,  2H191HA15 ,  2H191LA13 ,  2H191LA25 ,  2H191LA40
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (6件)
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