特許
J-GLOBAL ID：200903005057636049

フォトレジスト用樹脂とその製造方法、及びフォトレジスト組成物

発明者：
新井 隆

新井 隆 について

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当房 和久

当房 和久 について

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合田 晋

合田 晋 について


出願人/特許権者：
ダイセル化学工業株式会社

ダイセル化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-012838
公開番号（公開出願番号）：特開2001-201856
出願日： 2000年01月21日
公開日（公表日）： 2001年07月27日
要約：
【要約】【課題】 均質性に優れ、解像度の高い微細パターンを得ることのできるフォトレジスト用樹脂を得る。【解決手段】 本発明のフォトレジスト用樹脂の製造方法は、重合時の重合速度が相対的に速い単量体Aと相対的に遅い単量体Bとの共重合体からなるフォトレジスト用樹脂の製造方法であって、前記共重合体における前記単量体Aと単量体Bとの構成比(A/B;モル比)をαとしたとき、反応系内における単量体Aと単量体Bの存在比k(A/B;モル比)がα未満となるように単量体を系内に供給して重合させる前工程と、残余の単量体を系内に供給して重合させる後工程とを含む。単量体Bとして、脂環式炭化水素骨格を有するビニル単量体等を使用できる。
請求項（抜粋）：
重合時の重合速度が相対的に速い単量体Aと相対的に遅い単量体Bとの共重合体からなるフォトレジスト用樹脂の製造方法であって、前記共重合体における前記単量体Aと単量体Bとの構成比(A/B;モル比)をαとしたとき、反応系内における単量体Aと単量体Bの存在比k(A/B;モル比)がα未満となるように単量体を系内に供給して重合させる前工程と、残余の単量体を系内に供給して重合させる後工程とを含むフォトレジスト用樹脂の製造方法。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 2/00 ,  C08F 20/18 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 2/00 A ,  C08F 20/18 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (46件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4J011AA05 ,  4J011BB01 ,  4J011BB07 ,  4J011HA04 ,  4J011PB30 ,  4J011PB40 ,  4J011UA01 ,  4J011UA02 ,  4J011UA04 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J100AB02P ,  4J100AB03P ,  4J100AB04P ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100JA38 ,  4J100JA46
引用特許：
審査官引用 (7件)
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