特許
J-GLOBAL ID:200903005115211053
ダイヤモンド積層基板、電気化学素子およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (8件):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 峰 隆司
, 福原 淑弘
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-198089
公開番号(公開出願番号):特開2005-005659
出願日: 2003年06月13日
公開日(公表日): 2005年01月06日
要約:
【課題】特に素子分離を要する各種電極ならびにセンサへの応用、あるいは半導体およびその部材に適した、すなわち絶縁性の下地に高品質かつ導電性ダイヤモンド層を具備するダイヤモンド積層基板、電気化学素子およびその製造方法を提供する。【解決手段】単結晶シリコン基板11上に、絶縁性ダイヤモンド層12、導電性ダイヤモンド層13が、順次積層されてなるダイヤモンド積層基板を用いる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
少なくとも表面に単結晶シリコン層を有する基板上に、絶縁性ダイヤモンド層、導電性ダイヤモンド層が、順次積層されてなることを特徴とするダイヤモンド積層基板。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (18件):
4G077AA03
, 4G077BA03
, 4G077DB19
, 4G077EB01
, 4G077ED06
, 4G077EF01
, 4G077HA12
, 4G077TA04
, 4G077TA06
, 4G077TB07
, 4G077TC02
, 4G077TC13
, 5F045AA08
, 5F045AB07
, 5F045AD11
, 5F045AE23
, 5F045AF03
, 5F045BB16
引用特許:
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