特許
J-GLOBAL ID:200903005129944207

荷電粒子線露光用マスクの形成方法および荷電粒子線用マスクを形成するためのパターンデータの処理プログラム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金田 暢之 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-060131
公開番号(公開出願番号):特開2002-260992
出願日: 2001年03月05日
公開日(公表日): 2002年09月13日
要約:
【要約】【課題】 十分な機械的強度を保ちながらパターン開口数を必要最小限にし、パターン転写の信頼性を向上し得るステンシルマスクを効率的な方法で提供する。【解決手段】 開口パターンを有する荷電粒子線用マスクの形成方法において、所定のパターンデータにて表されるパターン図形の輪郭化処理を行う輪郭化工程と、輪郭化処理されたパターンデータにて表される多角形パターンのそれぞれについて凸多角形であるか否か識別する識別工程と、凸多角形でないと識別された多角形パターンのそれぞれについて複数のパターンセクションに分割するパターン分割工程と、複数のパターンセクションを一組の相補マスクを構成する各マスクに振り分ける振り分け工程を実施する。
請求項(抜粋):
開口パターンを有する荷電粒子線用マスクの形成方法であって、所定のパターンデータにて表されるパターン図形の輪郭化処理を行う輪郭化工程と、前記輪郭化処理されたパターンデータにて表される多角形パターンのそれぞれについて凸多角形であるか否か識別する識別工程と、凸多角形でないと識別された多角形パターンのそれぞれについて複数のパターンセクションに分割するパターン分割工程と、前記複数のパターンセクションを、一組の相補マスクを構成する各マスクに振り分ける振り分け工程を有する荷電粒子線露光用マスクの形成方法。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504
FI (4件):
G03F 1/16 B ,  G03F 1/16 E ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 J
Fターム (6件):
2H095BA09 ,  2H095BB01 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5F056CA05 ,  5F056CA12
引用特許:
審査官引用 (3件)

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