特許
J-GLOBAL ID:200903005218657050

弾性表面波装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中野 雅房
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-204270
公開番号(公開出願番号):特開2002-026676
出願日: 2000年07月05日
公開日(公表日): 2002年01月25日
要約:
【要約】【課題】 弾性表面波装置において、タンタルを主成分とする電極膜に吸蔵されていた水素を除去することによって電極膜の比抵抗を小さくする。また、デバイスの特性を安定化させる。【解決手段】 圧電性基板1の上にタンタルを主成分とする電極膜2を形成した後、この電極膜2を真空中において200°C〜700°Cの温度で数時間熱処理する。ついで、電極膜2をパターニングしてインターデジタル電極を得る。
請求項(抜粋):
真空中で圧電性基板にタンタルを主成分とする電極膜を作製する工程と、前記電極膜を所望の形状に加工する工程と、前記電極膜を200°C以上700°C以下の温度で熱処理する工程とを備えた弾性表面波装置の製造方法。
IPC (2件):
H03H 3/08 ,  H03H 9/145
FI (2件):
H03H 3/08 ,  H03H 9/145 C
Fターム (5件):
5J097AA01 ,  5J097AA24 ,  5J097FF03 ,  5J097HA02 ,  5J097KK09
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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