特許
J-GLOBAL ID：200903005222476736
非対称な縦断面形状を持つ凸部の測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
鈴木 正剛
, 佐野 良太
, 村松 義人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-575576
公開番号（公開出願番号）：特表2005-509132
出願日： 2001年11月13日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：
本発明は、半導体製造の製造プロセスによってウエハ上に形成された凸部(82)の縦断面形状の非対称性を検出するための方法(58)に関する。この方法(58)では、光または放射線のビームを凸部に照射(66)し、これについての反射光線を検出する(68)。反射光線についてのデータを、既知の凸部の縦断面形状(19)についてのデータと対応付け、該当する凸部についての縦断面形状の特徴を確認する(192)。縦断面形状の特徴を利用して、凸部の非対称性を割り出し(192)、これを使ってフィードバックプロセス制御データまたはフィードフォワードプロセス制御データを生成し、以後の半導体製造プロセスにおいてこのような非対称性を補償または補正する(200)。
請求項（抜粋）：
放射線である入射光線(86)を凸部(82)のほぼ第1の側面(87)に照射し(66)、
凸部(82)の第1の側面(87)についての第1の反射光線(90)を検出し(68)、
放射線である入射光線(93)を凸部(82)のほぼ第2の側面(94)に照射し(66)、
凸部(82)の第2の側面(94)についての第2の反射光線(100)を検出し(72)、
検出した第1の反射光線(90)と検出した第2の反射光線(100)とを利用して凸部(82)の非対称性を割り出す(74)ことが含まれる、凸部プロファイル(87、94)の非対称性を検出する方法(58)。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (28件)：
2F065AA52
, 2F065BB02
, 2F065BB18
, 2F065CC19
, 2F065CC21
, 2F065EE00
, 2F065FF42
, 2F065FF43
, 2F065FF50
, 2F065GG24
, 2F065HH13
, 2F065JJ09
, 2F065JJ16
, 2F065LL00
, 2F065PP13
, 2F065QQ25
, 2F065QQ41
, 2F065TT02
, 2F067AA52
, 2F067CC17
, 2F067FF01
, 2F067HH09
, 2F067JJ08
, 2F067KK08
, 2F067PP13
, 2F067RR24
, 2F067RR26
, 2F067RR44
