特許
J-GLOBAL ID:200903005254346451

金属酸化物薄膜の作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丹羽 宏之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-106427
公開番号(公開出願番号):特開2001-294408
出願日: 2000年04月07日
公開日(公表日): 2001年10月23日
要約:
【要約】【課題】 曇り度の低い透明な金属酸化物薄膜を簡単に効率良く得られるようにする。【解決手段】 液相析出法による金属酸化物薄膜の作製に際して、まず基板を洗浄し(S1)、その表面に酸化アルミニウムの分散液を塗布し(S2)、80〜300°Cで乾燥させる(S3)。そして、その酸化アルミニウム被膜の上に金属酸化物の被膜を形成する(S4)。
請求項(抜粋):
液相析出法による金属酸化物薄膜の作製方法であって、予め基材の表面に酸化アルミニウム被膜を設けておき、その酸化アルミニウム被膜の上に金属酸化物膜を形成するようにしたことを特徴とする金属酸化物薄膜の作製方法。
IPC (5件):
C01B 13/14 ,  C01B 33/12 ,  C01G 23/053 ,  C01G 49/02 ,  G02B 1/10
FI (5件):
C01B 13/14 Z ,  C01B 33/12 C ,  C01G 23/053 ,  C01G 49/02 Z ,  G02B 1/10 Z
Fターム (26件):
2K009BB02 ,  2K009BB24 ,  2K009CC03 ,  2K009DD02 ,  2K009EE02 ,  2K009EE05 ,  4G002AA02 ,  4G002AB02 ,  4G002AD00 ,  4G002AE05 ,  4G042DA01 ,  4G042DB04 ,  4G042DC03 ,  4G042DD02 ,  4G042DE04 ,  4G042DE14 ,  4G047CA02 ,  4G047CB05 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072FF07 ,  4G072GG03 ,  4G072NN21 ,  4G072UU02
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 防曇性材料
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-059745   出願人:ホーヤ株式会社
  • 被膜構成体及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-348275   出願人:松下電工株式会社
  • 酸化チタン被膜の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-315345   出願人:松下電工株式会社
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