特許
J-GLOBAL ID：200903005440378142

現像処理方法及び現像処理装置

発明者：
青山 亨

青山 亨 について

, 
岩城 浩之

岩城 浩之 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-375726
公開番号（公開出願番号）：特開2003-178946
出願日： 2001年12月10日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：
【要約】【課題】 現像処理においてパターン倒れを防止でき、かつ、基板の熱履歴を均一にすることができる現像処理方法及び現像処理装置を提供すること。【解決手段】 基板上にリンス液を供給して現像液を洗い流した後、例えばリンス液の表面張力に比べ表面張力の小さい揮発性の有機溶剤を基板上に供給しリンス液と置き換えることにより、この後、例えば基板を回転させて振り切り乾燥を行っても、パターン間に生じる引力を極力低減させることができ、パターン倒れを防止することができる。しかも、温調されたリンス液を供給し、基板上に残存した有機溶剤を洗い流すことにより、例えば後の工程で行われるエッチング処理時において、有機溶剤に含まれる不純物を除去できる等、悪影響を回避することができるとともに、温調されたリンス液を基板に供給することで、基板を所定の温度に戻すことができ、熱履歴を均一にすることができる。
請求項（抜粋）：
基板を収容する容器内で現像処理を行う現像処理方法において、(a)レジストパターンが現像された基板上に、第1の洗浄液を供給する工程と、(b)前記第1の洗浄液が供給された基板を停止させた状態で、該基板上に揮発性の処理液を供給する工程と、(c)前記処理液が供給された基板上に、温度調整された第2の洗浄液を供給する工程とを具備することを特徴とする現像処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/30
FI (5件)：
G03F 7/20 521 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 569 F ,  H01L 21/30 569 E ,  H01L 21/30 569 C
Fターム (10件)：
2H096AA25 ,  2H096GA02 ,  2H096GA17 ,  2H096GA18 ,  2H096GA21 ,  2H096GA29 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04 ,  5F046LA13 ,  5F046LA14
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • レジスト現像方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-016107   出願人：株式会社日立製作所
  • パターン形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-138557   出願人：ソニー株式会社
  • 現像装置及び現像方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-172445   出願人：日本電信電話株式会社

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