特許
J-GLOBAL ID:200903005454149987
有機ELパネルおよびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
吉田 研二
, 石田 純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-165459
公開番号(公開出願番号):特開2004-079512
出願日: 2003年06月10日
公開日(公表日): 2004年03月11日
要約:
【課題】有機EL素子の陰極を介する水分の侵入を効果的に防止する。【解決手段】有機EL素子の陰極40の上に有機EL素子の有機層と同じ材料からなる応力緩和層42を形成し、その上に陰極40と同じ材料からなる水分ブロック層44を形成する。これによって、応力を緩和しつつ、水分の侵入を効果的に防止する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板上にマトリクス配置された有機EL素子を有する有機ELパネルであって、
前記有機EL素子は、マトリクス配置された複数の有機EL素子に共通の陰極を有するとともに、
この陰極上に、水分が内部に侵入するのを防止する水分ブロック層を、応力緩和層を介し設けることを特徴とする有機ELパネル。
IPC (4件):
H05B33/04
, H05B33/10
, H05B33/14
, H05B33/26
FI (4件):
H05B33/04
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/26 Z
Fターム (7件):
3K007AB13
, 3K007AB15
, 3K007BA06
, 3K007BB02
, 3K007CC00
, 3K007DB03
, 3K007FA02
引用特許:
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