特許
J-GLOBAL ID：200903005495233410

磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク、および磁気ディスク用ガラス基板の製造システム

発明者：
磯野 英樹

磯野 英樹 について

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横山 知崇

横山 知崇 について

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友永 忠

友永 忠 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 アクア特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-022420
公開番号（公開出願番号）：特開2008-192195
出願日： 2007年01月31日
公開日（公表日）： 2008年08月21日
要約：
【課題】 複数のガラス基板102のそれぞれを、複数の化学強化処理槽130のいずれかの化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、化学強化工程前の複数のガラス基板102毎の内径を測定する内径測定工程と、化学強化工程によって生じるガラス基板102の内径の変化量を複数の化学強化処理槽130毎に把握する把握工程と、変化量に基づいて、内径が測定された複数のガラス基板の化学強化工程後の内径が所望する値になるように、化学強化を行う化学強化処理槽130をそれぞれ決定する組合せ決定工程と、をさらに含み、化学強化工程では、複数のガラス基板102を決定されたそれぞれの化学強化処理槽130で化学強化することを特徴としている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
中心に円孔が形成された円板状のガラス基板を複数の化学強化処理槽のいずれかの化学強化処理液に接触させることにより、該ガラス基板中に含まれる一部のイオンを該化学強化処理液中のイオンに置換して該ガラス基板を化学強化する化学強化工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、 前記化学強化工程前の前記ガラス基板の内径を測定する内径測定工程と、 前記化学強化工程によって生じるガラス基板の内径の変化量を前記複数の化学強化処理槽毎に把握する把握工程と、 前記変化量に基づいて、内径が測定されたガラス基板の前記化学強化工程後の内径が所望する値になるように、化学強化を行う化学強化処理槽を決定する組合せ決定工程と、をさらに含み、 前記化学強化工程では、前記決定された化学強化処理槽で前記ガラス基板を化学強化することを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/84 ,  C03C 21/00 ,  G11B 5/73
FI (3件)：
G11B5/84 Z ,  C03C21/00 101 ,  G11B5/73
Fターム (14件)：
4G059AA09 ,  4G059AB17 ,  4G059AC16 ,  4G059HB03 ,  4G059HB13 ,  4G059HB14 ,  4G059HB23 ,  5D006CB04 ,  5D006CB07 ,  5D006EA00 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA09
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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