特許
J-GLOBAL ID:200903005501622386

撥水性皮膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 祥泰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-049148
公開番号(公開出願番号):特開平8-217898
出願日: 1995年02月13日
公開日(公表日): 1996年08月27日
要約:
【要約】【目的】 優れた撥水性と密着性とを有し,且つ透明で低温成膜可能な皮膜を得ることができる,撥水性皮膜の製造方法を提供すること。【構成】 高周波プラズマCVD法を用いて,パーフルオロアルキルシランを分解し,その分解物を透明な樹脂基板7の表面に堆積密着させて撥水性のフッ素含有膜を形成する。樹脂基板7としては,ポリカーボネート樹脂,アクリル樹脂等を用いる。高周波プラズマCVD法は,減圧下において,高周波プラズマを発生させる反応管1を有する高周波プラズマCVD装置9を用いて行なう。反応管1の中には,気化したパーフルオロアルキルシランが導入管6を通じて導入される。また,高周波プラズマCVD法を用いて,パーフルオロアルキルシランを分解すると共に酸素と反応させ,その反応生成物を樹脂基板7の表面に堆積密着させることもできる。
請求項(抜粋):
高周波プラズマCVD法を用いて,パーフルオロアルキルシランを分解し,その分解物を基板の表面に堆積密着させることを特徴とする撥水性皮膜の製造方法。
IPC (4件):
C08J 7/00 306 ,  C08J 7/00 CEY ,  C08J 7/00 CFD ,  C23C 16/50
FI (4件):
C08J 7/00 306 ,  C08J 7/00 CEY ,  C08J 7/00 CFD ,  C23C 16/50
引用特許:
審査官引用 (2件)

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