特許
J-GLOBAL ID：200903005511414587

酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜

発明者：
高島 浩

高島 浩 について

, 
植田 和茂

植田 和茂 について

, 
伊藤 満

伊藤 満 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-190755
公開番号（公開出願番号）：特開2008-019317
出願日： 2006年07月11日
公開日（公表日）： 2008年01月31日
要約：
【課題】 ディスプレイ作製の基礎となる赤色、緑色、青色の3原色の発色が可能な、酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜を提供することにある。【解決手段】 酸化物蛍光材料をターゲット材料としてパルスレーザー堆積法によって、600°C以上800°C以下の温度でエピタキシャル成長により基板上に薄膜が形成し、前記薄膜の形成後、酸素中または大気中で900°C以上1200°C以下の熱処理によって蛍光特性を向上させたことを特徴とする酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜である。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
酸化物蛍光材料をターゲット材料としてパルスレーザー堆積法によって、600°C以上800°C以下の温度でエピタキシャル成長により基板上に薄膜が形成されたことを特徴とする酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜。
IPC (9件)：
C09K 11/00 ,  C09K 11/67 ,  C09K 11/66 ,  C09K 11/78 ,  C09K 11/08 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/10 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/28
FI (9件)：
C09K11/00 A ,  C09K11/67 ,  C09K11/66 ,  C09K11/78 ,  C09K11/08 B ,  H05B33/14 Z ,  H05B33/10 ,  C23C14/08 K ,  C23C14/28
Fターム (28件)：
3K107AA07 ,  3K107BB01 ,  3K107CC21 ,  3K107DD13 ,  3K107DD54 ,  3K107FF13 ,  3K107FF14 ,  3K107GG02 ,  3K107GG26 ,  3K107GG28 ,  3K107GG32 ,  4H001CA04 ,  4H001CF02 ,  4H001XA08 ,  4H001XA20 ,  4H001XA22 ,  4H001XA38 ,  4H001XA50 ,  4H001YA59 ,  4H001YA63 ,  4H001YA65 ,  4K029AA04 ,  4K029BA50 ,  4K029CA01 ,  4K029DB05 ,  4K029DB20 ,  4K029EA08 ,  4K029GA01
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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