特許

J-GLOBAL ID：200903005517281171

露光装置及び露光方法

発明者： 根本 亮二 ,  小松 伸壽 ,  高橋 聡 ,  佐藤 隆悟
出願人/特許権者： 日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 飯塚 義仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-041923
公開番号（公開出願番号）：特開2003-241396
出願日： 2002年02月19日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 アライメントを高速化し、高スループット化を図る。【解決手段】露光装置において、マスクMのパターン領域の外側に設けられた位置決め用のマークと、露光対象基板Pに設けられた位置決め用のマークとを該基板のステップ移動位置で検出する検出手段6A〜6Dと、前記検出手段をマーク検出位置に移動する移動手段7A〜7Dと、基板のステップ移動中若しくは露光中に、移動手段を制御手段でマーク検出位置に移動する。

請求項（抜粋）：

パターン形成用のマスクをマスクホルダで保持し、該マスクよりも大きい露光対象基板を露光チャックで保持し、該露光チャックをステップ移動して露光対象基板をマスクに対して所定位置に順次位置決めし、位置決めした各所定位置で露光を行う露光装置において、マスクのパターン領域の外側に設けられた位置決め用のマークと、露光対象基板に設けられた位置決め用のマークとを該基板のステップ移動位置で検出する検出手段と、前記検出手段を前記両マークのマーク検出位置に移動する移動手段と、前記露光対象基板のステップ移動中若しくは露光中に、前記露光対象基板のステップ移動位置に対応する前記マーク検出位置の位置情報に基づき前記移動手段を前記マーク検出位置に移動するように駆動制御する制御手段とを具えた露光装置。

IPC (2件)：

G03F 7/22 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/22 Z ,  H01L 21/30 510

Fターム (11件)：

2H097AB05 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097KA29 ,  2H097LA12 ,  5F046BA02 ,  5F046ED01 ,  5F046FA10 ,  5F046FB19

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-183518
  
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-053558   出願人：株式会社アドテックエンジニアリング
• フォトマスクと基板との位置合わせ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-198617   出願人：サンエー技研株式会社