特許
J-GLOBAL ID：200903079104548360
フォトマスクと基板との位置合わせ方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-198617
公開番号（公開出願番号）：特開2001-022100
出願日： 1999年07月13日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：
【要約】【課題】 従来方式の一括露光装置に所定の機能を追加することによって、安価に分割露光方法を可能にするフォトマスクと基板との位置合わせ方法を提供する。【解決手段】 TYPE3に示すように、「合わせ中心」をA点からB点に移動させる。B点がA-C間を2等分した位置とすれば、A点およびC点でのずれ量は、TYPE2の場合のC点でのずれ量の1/2となる。このように、「合わせ中心」を移動することによって、一括露光用のマークで分割露光の位置合わせが可能になる。
請求項（抜粋）：
フォトマスクと基板とが近接してまたは接触して重ねられ、前記フォトマスクを通して光を前記基板に照射することによって、前記フォトマスクに描かれたパターンを前記基板に転写する露光ステップにおいて、前記フォトマスクと前記基板とを位置合わせするために、前記フォトマスクと前記基板とには、それぞれ対応する位置に複数個の位置合わせマークが設けられ、前記フォトマスクと前記基板とが重ねられた状態で、CCDカメラによって、前記フォトマスクと前記基板との位置合わせマークが読取られ、そのマーク読取データに基づいて前記フォトマスクまたは前記基板のいずれか一方がX,Y,θ方向に移動されて前記フォトマスクと前記基板とを位置合わせする方式のフォトマスクと基板との位置合わせ方法であって、前記フォトマスクと前記基板との前記位置合わせマーク間にピッチ誤差がある場合、前記フォトマスクと前記基板との位置合わせマーク間の位置ずれ量を複数箇所のマークについて、CCDカメラによって読取るステップと、その読取データと前記基板上の特定の位置を示す値に基づいて前記フォトマスクと前記基板とを相対的に移動させ、前記フォトマスクのパターンが露光によって前記基板に転写された場合、前記基板上の特定の位置、または、領域において、前記位置合わせマーク間のピッチ誤差に起因する位置ずれ量を最小にするステップと、を備える、フォトマスクと基板との位置合わせ方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F 9/00 Z
, H01L 21/30 514 C
, H01L 21/30 522 Z
, H01L 21/30 525 X
2H097GA45
, 2H097GB02
, 2H097KA03
, 2H097KA12
, 2H097KA13
, 2H097KA15
, 2H097KA20
, 2H097KA28
, 2H097LA09
, 5F046AA03
, 5F046AA04
, 5F046AA11
, 5F046BA01
, 5F046BA02
, 5F046DB04
, 5F046DB05
, 5F046EA04
, 5F046EB02
, 5F046EB05
, 5F046ED01
, 5F046FA10
, 5F046FC05
