特許

J-GLOBAL ID：200903005673959579

ペリクル

発明者： 津本 高政 ,  倉田 洋行 ,  中川 広秋 ,  藤田 稔
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 郁男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-395047
公開番号（公開出願番号）：特開2002-258466
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】 マスクに損傷を与えることなく、マスクへの装着及びマスクからの脱着を行うことができ、しかも水平方向及び鉛直方向の何れの方向にマスク面が維持された場合にもマスクの平面性(フラットネス)を損なうことのないペリクルを提供すること。【解決手段】 ペリクル膜、ペリクル膜を支持するペリクル枠、及びペリクル枠のペリクル膜支持面とは反対側の面に設けられる粘着性樹脂層から成り、前記粘着性樹脂層が、硬質樹脂層と軟質樹脂層との組合せから成ることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ペリクル膜、ペリクル膜を支持するペリクル枠、及びペリクル枠のペリクル膜支持面とは反対側の面に設けられる粘着性樹脂層から成るペリクルにおいて、前記粘着性樹脂層が、硬質樹脂層と軟質樹脂層との組合せから成ることを特徴とするペリクル。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/14 K ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (2件)：

2H095BA01 ,  2H095BC39

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平2-135345
  
• 特開昭60-075835
  
• リソグラフィー用ペリクル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-029239   出願人：信越化学工業株式会社
• 特開平3-071134
  
• マスク等の基板へのペリクルの貼付方法及び該方法によって得られるペリクル貼付基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-024514   出願人：三井化学株式会社