特許

J-GLOBAL ID：200903023591995656

リソグラフィー用ペリクル

発明者： 松岡 卓
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-029239
公開番号（公開出願番号）：特開2000-227653
出願日： 1999年02月05日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 広範囲に亘るペリクルの貼り付け荷重に対してスタンドオフの変化がなく、さらに、エアパスによる貼り付け不良を起こさないリソグラフィー用ペリクルを提供する。【解決手段】 少なくともペリクル膜と、該ペリクル膜を接着するペリクル枠と、該ペリクル枠の下端面に位置する露光用基板に固定するための接着層を有するリソグラフィー用ペリクルにおいて、前記接着層が自己接着性を有する弾性体と粘着剤との二重構造であることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。

請求項（抜粋）：

少なくともペリクル膜と、該ペリクル膜を接着するペリクル枠と、該ペリクル枠の下端面に位置する露光用基板に固定するための接着層を有するリソグラフィー用ペリクルにおいて、前記接着層が自己接着性を有する弾性体と粘着剤との二層構造であることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/14 J ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (1件)：

2H095BC39

引用特許：

審査官引用 (4件)

• フォトマスク用ペリクル枠
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-062825   出願人：三菱電機株式会社
• 特開平2-225566
  
• ペリクル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-075692   出願人：株式会社日立製作所, 三井石油化学工業株式会社
• 特開平3-071134