汚染の少ないペリクル及びその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：中島淳 , 加藤和詳 , 西元勝一 , 福田浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-130593
公開番号（公開出願番号）：特開2007-156397
出願日： 2006年05月09日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

【課題】フォトマスクからペリクルを剥離した際に、ペリクルのマスク接着剤の一部が剥離し、フォトマスクの表面に転写して残留する糊残りが少ないペリクルを提供する。【解決手段】厚さ125μmの表面処理されていないポリエチレンテレフタレートフィルムをペリクルのマスク接着層9に接着させた後、温度23°Cで、前記ポリエチレンテレフタレートフィルムを接着面に対して180°方向に剥離する際の剥離強度が0.004N/mm以上0.10N/mm以下であることを特徴とするペリクル1。好ましくは、フォトマスクに接着するマスク接着剤7としてアクリル系エマルジョン接着剤を用いる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

枠体の一端面に膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、該枠体の他端面にフォトマスクに接着させるためのマスク接着層が設けられたペリクルであって、該ペリクルを前記マスク接着層を介して石英ガラスに接着させ、次いで該ペリクルを前記石英ガラスから剥離した時に、前記ペリクルのマスク接着層の一部が剥離し、前記石英ガラス上に転写して残留する糊残りの面積が、前記マスク接着層が接着していた面積の5%以下となるものであることを特徴とするペリクル。

IPC (5件)：

G03F 1/14 , H01L 21/027 , C09J 5/00 , C09J 133/00 , C09J 7/00

FI (5件)：

G03F1/14 J , H01L21/30 502P , C09J5/00 , C09J133/00 , C09J7/00

Fターム (22件)：

2H095BC31 , 4J004AA05 , 4J004AA07 , 4J004AA09 , 4J004AA10 , 4J004AA11 , 4J004AA14 , 4J004CA04 , 4J004CA06 , 4J004EA05 , 4J004FA04 , 4J040CA051 , 4J040CA071 , 4J040CA081 , 4J040CA151 , 4J040DB051 , 4J040DF011 , 4J040DF031 , 4J040DF081 , 4J040DF101 , 4J040JA03 , 4J040JA09

引用特許：

出願人引用 (5件)

マスク等の基板へのペリクルの貼付方法及び該方法によって得られるペリクル貼付基板
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-024514 出願人：三井化学株式会社
特開昭61-245163号公報
特開昭62-109053号公報

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