特許

J-GLOBAL ID：200903005678526174

蒸着装置

発明者： 田中 淳 ,  辻村 隆俊 ,  村山 浩二
出願人/特許権者： 京セラ株式会社 ,  奇美電子股▲ふん▼有限公司
代理人 (2件)： 楠本 高義 ,  増田 建
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-181207
公開番号（公開出願番号）：特開2006-002226
出願日： 2004年06月18日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：

【課題】 本発明は、極力材料の無駄が発生しない蒸着装置を提供することを目的とする。【解決手段】 蒸着装置10aは、各基板14間を移動し、材料を加熱蒸発させ、各基板14に対して蒸発物を堆積させるための蒸発源12を備える。基板14を真空チャンバーA,Cに出入したりアライメントしたりする間に他の基板14を蒸着する。材料の無駄が非常に少なく、製造されるOLEDの製造コストを下げることができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

複数の基板上に蒸発物を堆積させる蒸着装置であって、 前記基板が配置される真空室と、 前記複数の基板間を移動し、材料を加熱蒸発させ、各基板に対して蒸発物を堆積させるための蒸発源と、 を備えたことを特徴とする蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

C23C14/24 C ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (13件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB14 ,  4K029DB18 ,  4K029DB19 ,  4K029DB23 ,  4K029HA01 ,  4K029KA09

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 成膜装置および成膜方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-177682   出願人：ソニー株式会社
• 特開昭61-284569
  
• 製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-284342   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-284569
  
• 製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-284342   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所