特許
J-GLOBAL ID：200903096412908565

成膜装置および成膜方法

発明者：
森 敬郎

森 敬郎 について

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山口 優

山口 優 について

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紙山 功

紙山 功 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-177682
公開番号（公開出願番号）：特開2002-367781
出願日： 2001年06月12日
公開日（公表日）： 2002年12月20日
要約：
【要約】【課題】有機EL表示装置の有機層の形成工程のタクトタイムを短縮でき、かつ、有機層の形成に用いられる有機材料の無駄な消費を抑制することができる成膜装置および成膜方法を提供する。【解決手段】所定のパターンに対応した開口をもつ成膜用マスクをアノード電極層が形成された基板に対してアライメントし、かつ、成膜用マスクと基板とを分離可能に結合させるアライメント機構を備えたアライメント室53と、成膜用マスクと結合された基板への複数の有機材料層の形成を順次行うための真空処理室62,63,64と、アライメント機構によって結合された状態にある成膜用マスクおよび基板を真空処理室62,63,64のうちの一つへ搬送し、かつ、真空処理室62,63,64間で順次搬送する搬送ロボット45とを有する。
請求項（抜粋）：
基板と、前記基板上に複数形成された所定パターンの第1の電極層と、前記各第1の電極層上に積層された複数の有機材料層からなる所定パターンの有機層と、前記有機層上に形成された第2の電極層とを有する有機電界発光表示装置における少なくとも前記有機層を形成する成膜方法であって、前記所定のパターンに対応した開口をもつ成膜用マスクを前記第1の電極層が形成された基板に対してアライメントし、かつ、前記成膜用マスクと前記基板とを分離可能に結合し、前記成膜用マスクと結合された前記基板への前記複数の有機材料層の形成を複数の真空処理室において順次行い、かつ、当該真空処理室間を前記成膜用マスクと前記基板とが結合された状態で搬送する成膜方法。
IPC (8件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (8件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 A ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z
Fターム (45件)：
3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CB01 ,  3K007CB03 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029HA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  5C094AA08 ,  5C094AA43 ,  5C094AA48 ,  5C094BA03 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094DB01 ,  5C094DB04 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EA07 ,  5C094EB02 ,  5C094FA01 ,  5C094FA02 ,  5C094FB01 ,  5C094FB20 ,  5C094GB10 ,  5G435AA04 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435EE37 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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