特許
J-GLOBAL ID：200903005688689233
スパッタリング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
荒船 博司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-367345
公開番号（公開出願番号）：特開2005-133110
出願日： 2003年10月28日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：
【課題】 高性能の光学薄膜を高速で成膜できるスパッタリング装置を提供する。【解決手段】 本発明のスパッタリング装置90は、真空槽2内に、円筒状又は平板状の少なくとも2つのターゲット材料63と、前記ターゲット材料の外表面近傍に磁界を発生させるマグネット80とを備える。そして、2つのターゲット材料の外表面同士の間隔をd1、前記ターゲット材料の外表面と基板表面との間隔をd2と規定したときに、次の式1を満たすことを特徴とする。d1≦3d2 (式1)【選択図】図3
請求項（抜粋）：
真空槽内に、円筒状又は平板状の少なくとも2つのターゲット材料と、前記ターゲット材料の外表面近傍に磁界を発生させるマグネットとを備え、前記真空槽内に放電ガスと反応ガスとを導入した状態で、前記各ターゲット材料に電圧を印加することで基板表面に成膜を行うスパッタリング装置において、
前記2つのターゲット材料の外表面同士の間隔をd1、前記ターゲット材料の外表面と前記基板表面との間隔をd2と規定したときに、次の式1を満たすことを特徴とするスパッタリング装置。
d1≦3d2 (式1)
IPC (1件)：
FI (2件)：
C23C14/34 C
, C23C14/34 R
4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029BA46
, 4K029BA48
, 4K029BC07
, 4K029CA06
, 4K029CA15
, 4K029DA06
, 4K029DC13
, 4K029DC16
, 4K029DC25
, 4K029DC33
, 4K029DC40
, 4K029DC45
, 4K029JA02
