特許

J-GLOBAL ID：200903005742013593

反射防止組成物

発明者： エドワード・ケイ・パベルチェク ,  ピーター・トレフォナス,ザサード
出願人/特許権者： シップレーカンパニー エル エル シー
代理人 (1件)： 千田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-136712
公開番号（公開出願番号）：特開2003-114533
出願日： 2002年05月13日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】向上された貯蔵性(すなわちシエルフライフ安定性)をはじめとする向上された特性を示す,上塗りされたフオトレジスト層とともに使用される新規な反射防止組成物。【解決手段】スルホン酸塩などのイオン性熱酸発生剤、樹脂および架橋成分を含有する反射防止組成物。本発明の反射防止組成物は反射防止組成物層上にフォトレジスト組成物層を施用される前に架橋される。又、本発明の反射防止組成物は、248nmおよび193nmをはじめとする上塗りされたフォトレジスト層の露光に使用される種々の波長において効果的に使用できる。

請求項（抜粋）：

イオン性熱酸発生剤および樹脂を含む反射防止組成物層、および該反射防止組成物層の上のフォトレジスト層、を含む被覆された基体。

IPC (4件)：

G03F 7/11 503 ,  B05D 1/36 ,  B05D 5/06 104 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/11 503 ,  B05D 1/36 Z ,  B05D 5/06 104 E ,  H01L 21/30 574

Fターム (22件)：

2H025AB16 ,  2H025DA34 ,  4D075AE03 ,  4D075BB26Z ,  4D075BB42Z ,  4D075CB02 ,  4D075CB03 ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4D075EA07 ,  4D075EA19 ,  4D075EA45 ,  4D075EB14 ,  4D075EB19 ,  4D075EB22 ,  4D075EB32 ,  4D075EB45 ,  4D075EB52 ,  4D075EB56 ,  4D075EC07 ,  5F046PA07 ,  5F046PA19

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フォトレジストレリーフイメージの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-063610   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-280202   出願人：富士写真フイルム株式会社