特許
J-GLOBAL ID：200903098852357873
フォトレジストレリーフイメージの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
千田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-063610
公開番号（公開出願番号）：特開2000-294504
出願日： 2000年03月08日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：
【要約】【課題】 ディープUV用途を含む、特に、平坦化被覆層が要求される場合に有用である反射防止被覆組成物として使用することができる新規な光吸収組成物を提供する。【解決手段】 トポグラフィーを有する基体上にフォトレジストレリーフイメージを形成する方法であって、(a)約8、000以下の分子量を有するポリマーを含む反射防止組成物の層を基体上に適用し、(b)該反射防止組成物層の上にフォトレジスト組成物の層を適用し、および(c)活性化放射線によりフォトレジスト層を露光し、露光したフォトレジスト層を現像する、ことを含む、フォトレジストレリーフイメージを形成する方法。
請求項（抜粋）：
トポグラフィーを有する基体上にフォトレジストレリーフイメージを形成する方法であって、(a)約8、000以下の分子量を有するポリマーを含む反射防止組成物の層を基体上に適用し、(b)該反射防止組成物層の上にフォトレジスト組成物の層を適用し、および(c)活性化放射線によりフォトレジスト層を露光し、露光したフォトレジスト層を現像する、ことを含む、フォトレジストレリーフイメージを形成する方法。
IPC (7件)：
H01L 21/027
, G03F 7/11 503
, C08K 5/13
, C08K 5/3445
, C08L 33/06
, C08L 61/20
, C08L101/12
H01L 21/30 574
, G03F 7/11 503
, C08K 5/13
, C08K 5/3445
, C08L 33/06
, C08L 61/20
, C08L101/12
, H01L 21/30 578
