特許
J-GLOBAL ID：200903005749153625
露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-274250
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176751
出願日： 1998年09月11日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 光投影露光装置と荷電ビーム描画装置とを併用するミックスアンドマッチを荷電ビーム露光を良好に行なう。【解決手段】 集積回路を作成するための複数のフォトリソグラフィ工程における露光を、光投影露光と荷電ビーム露光とを併用して行なう露光であって、荷電ビーム露光が複数のフォトリソグラフィ工程の第1工程であるか、または荷電ビーム露光が複数のフォトリソグラフィ工程の第2工程である露光方法において、予め、少なくとも光投影露光を用いる複数のフォトリソグラフィ工程別にディストーション補正マップを用意し、これらのディストーション補正マップに基づいて、荷電ビーム露光時の描画パターン補正を行なう。
請求項（抜粋）：
集積回路を作成するための複数のフォトリソグラフィ工程における露光を、光投影露光と荷電ビーム露光とを併用して行なう露光であって、荷電ビーム露光が複数のフォトリソグラフィ工程の第1工程であるか、または荷電ビーム露光が複数のフォトリソグラフィ工程の第2工程である露光方法において、予め、少なくとも光投影露光を用いる複数のフォトリソグラフィ工程について該工程により形成されるパターンの理想パターンに対するディストーションに応じたディストーション補正マップを工程別に作成し、これらのディストーション補正マップに基づいて前記荷電ビーム露光時の描画データを補正することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 502 A
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 541 M
