特許
J-GLOBAL ID:200903005757487478

メソポーラス無機材料及びそのメソポーラス無機材料を担持した吸着フィルタの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 小林 久夫 ,  安島 清 ,  佐々木 宗治 ,  大村 昇 ,  高梨 範夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-309915
公開番号(公開出願番号):特開2008-126088
出願日: 2006年11月16日
公開日(公表日): 2008年06月05日
要約:
【課題】ナノメートルサイズの孔径を有し、細孔配列が三次元高規則性を有するヘキサゴナル構造のメソポーラス無機材料と、そのメソポーラス無機材料を担持した吸着フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】細孔配列が三次元高規則性を有するメソポーラス無機材料を担持した吸着フィルタの製造方法において、溶媒中に原料を溶解して原料混合溶液を作製する工程と、原料混合溶液中の溶媒を揮発させて無機有機複合ナノ構造体の前駆体溶液を作製する工程と、前駆体溶液をフィルタ基材に添着する工程と、フィルタ基材に添着した前駆体溶液中の有機高分子成分を除去する工程とからなることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
細孔配列が三次元高規則性を有するメソポーラス無機材料を担持した吸着フィルタの製造方法において、 溶媒中に原料を溶解して原料混合溶液を作製する工程と、 前記原料混合溶液中の溶媒を揮発させて無機有機複合ナノ構造体の前駆体溶液を作製する工程と、 前記前駆体溶液をフィルタ基材に添着する工程と、 前記フィルタ基材に添着した前駆体溶液中に残存している界面活性剤を除去する工程とからなる
IPC (3件):
B01J 20/10 ,  C01B 37/00 ,  B01J 20/28
FI (3件):
B01J20/10 A ,  C01B37/00 ,  B01J20/28 Z
Fターム (43件):
4G066AA22B ,  4G066AA71C ,  4G066AA72C ,  4G066AB23A ,  4G066AE20D ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066FA03 ,  4G066FA34 ,  4G066FA35 ,  4G066FA37 ,  4G073BA21 ,  4G073BB40 ,  4G073BB58 ,  4G073BB65 ,  4G073BC02 ,  4G073BD07 ,  4G073BD16 ,  4G073CZ55 ,  4G073FA30 ,  4G073FB07 ,  4G073FB42 ,  4G073FB48 ,  4G073FC25 ,  4G073FC26 ,  4G073FC29 ,  4G073FC30 ,  4G073FD01 ,  4G073FD10 ,  4G073FD13 ,  4G073FD21 ,  4G073FD22 ,  4G073GA03 ,  4G073GA11 ,  4G073GA12 ,  4G073GA13 ,  4G073GA14 ,  4G073GA19 ,  4G073GB10 ,  4G073UA06
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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