特許
J-GLOBAL ID：200903005897884027
現像処理方法及び現像処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-276109
公開番号（公開出願番号）：特開2008-098267
出願日： 2006年10月10日
公開日（公表日）： 2008年04月24日
要約：
【課題】装置運転をしばらく休止して運転を再開させたときに再開直後から安定した所望の現像品質が得られるようにする。【解決手段】装置運転がしばらく休止して運転を再開するときは、再開に先立ち、現像液供給部dev1内では現像液ノズル146を、現像停止部dev3内ではリンス液ノズル156をそれぞれ搬送路120に沿って往復移動させ、現像液ノズル146より現像液供給部dev1内のコロ190に現像液Rを掛け、リンス液ノズル156より現像停止部dev3内のコロ190にリンス液(純水)Sを掛ける。【選択図】 図8
請求項（抜粋）：
多数のコロを所定のピッチで水平方向に敷設してなる平流しの搬送路上で露光処理後の被処理基板に所定のタクトタイムで1枚ずつ順番に現像処理を施す現像処理方法であって、
一群の前記基板に対して前記タクトタイムでの連続的な現像処理を開始するに先立ち、前記搬送路上の少なくとも一部のコロにコロ温度調整用の液を所定の時間期間に亘り連続的または断続的に掛け続けて、前記コロの温度を周囲温度よりも低い温度に調整しておく現像処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 569D
, G03F7/30 501
2H096AA25
, 2H096AA28
, 2H096GA24
, 5F046LA11
, 5F046LA13
出願人引用 (1件)
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基板乾燥装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-273611
出願人：東京エレクトロン株式会社
審査官引用 (2件)
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