特許

J-GLOBAL ID：200903080118811924

インライン式現像処理装置および現像処理方法

発明者： 島井 太 ,  河田 茂
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-183014
公開番号（公開出願番号）：特開2005-019720
出願日： 2003年06月26日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】搬送ラインの長さを長くすることなく、しかも現像ムラの生じにくいインライン式現像処理装置を提供する。【解決手段】露光済みのレジスト膜が表面に形成された基板Wは、現像液供給部2において表面に現像液が供給され、搬送されつつ現像反応が進行し、次いで、現像液回収部4において現像液が回収され、更にリンス液供給・回収部6において洗浄と洗浄液の回収が行われ、最終的に乾燥部8に送られる。この一連の現像処理の過程において、下流側の処理部に基板が入っている場合には、当該処理部の直前の待機部、例えば処理部が現像液回収部4の場合には、その直前の待機部3において、コロ10aに正逆回転を繰り返させ、基板Wを図2に示すように往復動せしめる。その結果、基板Wの裏面ではコロ10aと接触する部分が常に移動し一箇所に止まることがなく、基板の温度分布が均一になる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

多数のコロからなる搬送ラインの途中に基板表面に現像液を盛り付ける現像液供給部が設けられ、この現像液供給部よりも搬送ラインに沿って下流側に次工程の処理部を配置したインライン式現像処理装置において、前記現像液供給部と次工程の処理部との間に待機部を設け、この待機部を構成するコロを正逆回転可能としたことを特徴とするインライン式現像処理装置。

IPC (1件)：

H01L21/027

FI (1件)：

H01L21/30 569A

Fターム (4件)：

5F046LA11 ,  5F046LA12 ,  5F046LA14 ,  5F046LA19

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-004986
  
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-202631   出願人：東京エレクトロン株式会社
• フォトリソ工程における現像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-188796   出願人：シャープ株式会社