特許
J-GLOBAL ID：200903005913740391
露光用マスク基板
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-304185
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159981
出願日： 1993年12月03日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 単層半透明位相シフト膜が少なくとも一部に配設された露光用マスク基板において、従来より用いている遮光マスクと比べより低反射率とすることができ、迷光の除去を可能とし、更にマスク像質についても滲み量を所望寸法に対し2.5%以下に抑えることを可能とした。【構成】 半透明位相シフト膜を用いた露光用マスク基板において、半透明位相シフト膜の強度透過率tが2〜16%の範囲にあり、且つ半透明位相シフト膜表面の反射率を10%以下とするとき、半透明位相シフト膜の屈折率を1.49以上で且つ1.73+0.016t以下の範囲とするように構成する。
請求項（抜粋）：
透光性基板上の少なくとも一方の面に2〜16%の強度透過率tを有し、且つ前記透光性基板のみを透過した光に対し光路長が半波長異なるように屈折率,消衰係数,膜厚が調整された単層構造の半透明位相シフト膜が少なくとも一部に配設された露光用マスク基板において、前記半透明位相シフト膜が配設された面における該半透明位相シフト膜表面の反射率が10%以下であることを特徴とする露光用マスク基板。
IPC (3件)：
G03F 1/14
, G03F 1/08
, H01L 21/027
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
