特許
J-GLOBAL ID：200903005954774799

レジスト組成物

発明者：
フー、サンリン

フー、サンリン について

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マグスーディ、シーナ

マグスーディ、シーナ について

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モイヤー、エリック・スコット

モイヤー、エリック・スコット について

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ワン、シェン

ワン、シェン について


出願人/特許権者：
ダウ・コーニング・コーポレイション

ダウ・コーニング・コーポレイション について


代理人 (5件)： 曾我 道治 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順 ,  大宅 一宏
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-540303
公開番号（公開出願番号）：特表2008-519314
出願日： 2005年09月20日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：
レジスト組成物は、(A)水素シルセスキオキサン樹脂と、(B)酸解離性基含有化合物と、(C)光酸発生剤と、(D)有機溶媒と、任意で(E)添加剤とを含む。このレジスト組成物により、フォトレジストとして好適なリソグラフィ特性(例えば、高い耐エッチング性、透明性、解像度、感度、フォーカス許容性、ラインエッジラフネス及び密着性)が改良される。
請求項（抜粋）：
(A)水素シルセスキオキサン樹脂と、(B)酸解離性基含有化合物と、(C)光酸発生剤と、(D)有機溶媒とを含むレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/075 ,  H01L 21/027 ,  C08G 77/12
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/075 521 ,  H01L21/30 502R ,  C08G77/12
Fターム (42件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB32 ,  2H025CC01 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025EA05 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J246AA03 ,  4J246AB05 ,  4J246AB13 ,  4J246BA110 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BA130 ,  4J246BA310 ,  4J246BA370 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246CA01X ,  4J246CA25X ,  4J246CA58X ,  4J246FA071 ,  4J246FA081 ,  4J246FA451 ,  4J246FA461 ,  4J246FB273 ,  4J246FD02 ,  4J246GA01 ,  4J246GA12 ,  4J246GB11 ,  4J246HA15
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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