特許

J-GLOBAL ID：200903050220138537

ケイ素含有化合物、ポリシロキサンおよび感放射線性樹脂組成物

発明者： 千葉 隆 ,  林 明弘 ,  下川 努
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-093456
公開番号（公開出願番号）：特開2004-300230
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

【課題】波長200nm以下の放射線に対する透明性が高く、解像度に優れたレジストの樹脂成分等として有用な、含フッ素ノルボルナン骨格を有する新規ポリシロキサン、該ポリシロキサンの合成原料等として有用な新規ケイ素含有化合物、並びに該ポリシロキサンを含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】ケイ素含有化合物は下記一般式(1)で表される。【化1】〔但し、Xは水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、(ハロゲン化)炭化水素基等の1価の基、R1 は1価の(ハロゲン化)炭化水素基、aは0〜3の整数、Bは水素原子またはフッ素原子、mは1〜10の整数、nは0または1である。〕ポリシロキサンは該ケイ素含有化合物に由来する構造単位を有し、感放射線性樹脂組成物は該ポリシロキサンおよび感放射線性酸発生剤を含有する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されるケイ素含有化合物。

IPC (5件)：

C08G77/24 ,  C07F7/18 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

FI (6件)：

C08G77/24 ,  C07F7/18 E ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/075 501 ,  G03F7/075 521 ,  H01L21/30 502R

Fターム (49件)：

2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB33 ,  2H025CB55 ,  2H025CC20 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ21 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VU20 ,  4H049VU24 ,  4J246AA03 ,  4J246AB01 ,  4J246BA020 ,  4J246BA04X ,  4J246BA040 ,  4J246BA340 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246CA47X ,  4J246CA470 ,  4J246CA760 ,  4J246CA770 ,  4J246FA011 ,  4J246FA131 ,  4J246FA421 ,  4J246FA461 ,  4J246FE02 ,  4J246FE04 ,  4J246FE22 ,  4J246FE25 ,  4J246FE27 ,  4J246FE33 ,  4J246FE34 ,  4J246FE35 ,  4J246FE36 ,  4J246GA01 ,  4J246GC26 ,  4J246HA15

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ポリシロキサン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-019834   出願人：ジェイエスアール株式会社
• ポリシロキサン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-300517   出願人：ジェイエスアール株式会社