特許

J-GLOBAL ID：200903005973620018

基板洗浄装置

発明者： 阿藤 浩司
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-358224
公開番号（公開出願番号）：特開2000-176386
出願日： 1998年12月16日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：

【要約】【課題】 複数の洗浄工程を1台の装置構成で行なうことによって、装置の規模を縮小して設備コストを低減し、かつ処理時間を短縮することによりスループットを向上させるとともに、清浄度の高い基板を提供することができるような基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 基板Wの周囲に配置され、該基板の周縁部に当接して該基板を保持し運動を与える複数のローラ16を備えた第1洗浄機構12と、前記基板を前記第1洗浄機構による運動よりも高速で運動させることが可能な運動機構を備えた第2洗浄機構14と、前記第1洗浄機構と第2洗浄機構を選択的に切り換える切換手段60とを有する。

請求項（抜粋）：

基板の周囲に配置され、該基板の周縁部に当接して該基板を保持し運動を与える複数のローラを備えた第1洗浄機構と、前記基板を前記第1洗浄機構による運動よりも高速で運動させることが可能な運動機構を備えた第2洗浄機構と、前記第1洗浄機構と第2洗浄機構を選択的に切り換える切換手段とを有することを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (6件)：

B08B 3/02 ,  B08B 1/04 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 644 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 648

FI (6件)：

B08B 3/02 ,  B08B 1/04 ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 644 A ,  H01L 21/304 644 C ,  H01L 21/304 648 A

Fターム (25件)：

3B116AA03 ,  3B116AB33 ,  3B116AB44 ,  3B116BA06 ,  3B116BA15 ,  3B116BB21 ,  3B116BB24 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B116CD11 ,  3B116CD33 ,  3B201AA03 ,  3B201AB02 ,  3B201AB34 ,  3B201AB44 ,  3B201BB21 ,  3B201BB24 ,  3B201BB83 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CB12 ,  3B201CC12 ,  3B201CD11 ,  3B201CD33

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板の洗浄方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-182314   出願人：松下電器産業株式会社
• 特開昭60-143634
  
• 基板洗浄装置および基板洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-112863   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭60-143634