ビニル基含有ジアリールエテン単量体及びこれを利用して製造したフォトクロミック高分子

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村興作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-275258
公開番号（公開出願番号）：特開2003-176285
出願日： 2002年09月20日
公開日（公表日）： 2003年06月24日
要約：

【要約】【課題】容易にフォトクロミック高分子が合成できる新規ジアリールエテン単量体、及び該単量体を重合して得た新規フォトクロミック高分子を提供する。【解決手段】下記の式(1)で示されるジアリールエテン単量体と、これを重合して製造したフォトクロミック高分子である。下記の式(1)で示されるジアリールエテンを高分子鎖内に導入することにより、光信号の制御特性、光変色特性及び光屈折率の制御特性等が優れたフォトクロミック高分子が製造でき、特にジアリールエテンブロックを含むブロック共重合体はブロックの長さ及び共単量体の構造を制御することにより、高分子のフォトクロミック特性を容易に制御することができる。【化1】(上記式(1)において: Z1, Z2, Ar1及びAr2はそれぞれ発明の詳細な説明での定義と同様である。)

請求項（抜粋）：

下記の式(1)で示されるジアリールエテン単量体。【化1】(上記式(1)で:Z1及びZ2はそれぞれシアノ基であるか、若しくはZ1及びZ2が結合し合い1又は2以上のフッ素で置換又は非置換された4〜6員環を形成しており;Ar1及びAr2はそれぞれ又はを示し、この時、X及びYは酸素(O)、硫黄(S)、NH、又はN-CH3を示し、R2 及びR5はそれぞれ置換又は非置換されたC1〜C3アルキル基を示し、R3は水素原子、フッ素原子、又は置換又は非置換されたC1〜C3 アルキル基を示し、R4 及びR6はそれぞれ-H, -CH3, -C(=O)CH3、イソオキサゾール基、ビニル基, -C(=O)-Ar3-CH=CH2, -C(=O)-Ar4, 又は -N(Ar5)2を示し、但し、Ar1とAr2 のいずれかのR4 又はR6は必ずビニル基又は-C(=O)-Ar3-CH=CH2でなければならず、Ar3, Ar4 又はAr5はそれぞれ置換又は非置換されたベンゼン環又はチオフェンを示す。)

IPC (8件)：

C07D333/54 , C07D333/56 , C07D333/60 , C07D409/08 , C08F 12/14 , C08F 26/06 , C08F 28/06 , C09K 9/02

FI (8件)：

C07D333/54 , C07D333/56 , C07D333/60 , C07D409/08 , C08F 12/14 , C08F 26/06 , C08F 28/06 , C09K 9/02 B

Fターム (36件)：

4C063AA01 , 4C063BB05 , 4C063CC94 , 4C063DD06 , 4C063EE05 , 4J100AB02Q , 4J100AB07P , 4J100AB15Q , 4J100AL03Q , 4J100AL08Q , 4J100AL09Q , 4J100AL10Q , 4J100AL62Q , 4J100AL66Q , 4J100AM15Q , 4J100AQ06P , 4J100AQ28P , 4J100BA02Q , 4J100BA05Q , 4J100BA08Q , 4J100BA12P , 4J100BA14P , 4J100BA40P , 4J100BA51Q , 4J100BB03Q , 4J100BB07P , 4J100BB18Q , 4J100BC45Q , 4J100BC65P , 4J100BC83P , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100DA25 , 4J100DA39 , 4J100DA61 , 4J100JA32

引用特許：

出願人引用 (1件)

重合体フォトクロミック組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-047149 出願人：日本電信電話株式会社

審査官引用 (5件)

近接場光記録媒体及び近接場光記録方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-065344 出願人：入江正浩
フォトクロミックオルガノポリシロキサンおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-275552 出願人：東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社, 入江正浩
エチニル基を有するジアリールエテン系化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-026183 出願人：鐘紡株式会社

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