特許

J-GLOBAL ID：200903006019763084

弾性表面波装置およびその製造方法

発明者： 荒木 信成
出願人/特許権者： 株式会社村田製作所
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-264163
公開番号（公開出願番号）：特開2003-198321
出願日： 2002年09月10日
公開日（公表日）： 2003年07月11日
要約：

【要約】【課題】 挿入損失を低減できると共に、耐候性に優れてコストダウンできる弾性表面波装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】 圧電基板1a上に、くし形電極部1bを設ける。耐候性を向上させるための、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜および酸化窒化シリコン膜の少なくとも1種類からなる機能膜4を、くし形電極部1b上の少なくとも一部に、ECRスパッタ法により成膜する。

請求項（抜粋）：

圧電基板上に、くし形電極部が設けられ、耐候性を向上させるための、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜および酸化窒化シリコン膜の少なくとも1種類からなる機能膜が、くし形電極部上の少なくとも一部に成膜され、くし形電極部及び機能膜を備えた圧電基板を収納するパッケージが、少なくとも一部に透湿性を有する部材にて設けられ、上記機能膜は、電子サイクロトロン共鳴スパッタリング法により形成されていることを特徴とする、弾性表面波装置。

IPC (6件)：

H03H 9/25 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/18 ,  H01L 41/22 ,  H03H 3/08 ,  H03H 9/145

FI (6件)：

H03H 9/25 A ,  H03H 3/08 ,  H03H 9/145 C ,  H01L 41/08 C ,  H01L 41/22 Z ,  H01L 41/18 101 A

Fターム (8件)：

5J097AA01 ,  5J097AA25 ,  5J097BB11 ,  5J097DD29 ,  5J097FF05 ,  5J097JJ09 ,  5J097KK01 ,  5J097KK10

引用特許：

審査官引用 (5件)

• ZnO薄膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-281414   出願人：株式会社村田製作所
• 特開昭61-269509
  
• 弾性表面波装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-056200   出願人：京セラ株式会社
• 弾性表面波装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-330575   出願人：株式会社村田製作所
• 特開昭61-269509