特許
J-GLOBAL ID:200903006109487493

高抵抗化酸化インジウム膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 東海 裕作 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-021912
公開番号(公開出願番号):特開平6-293957
出願日: 1994年01月21日
公開日(公表日): 1994年10月21日
要約:
【要約】【目的】 200〜 3000 Ω/□の比較的高いシート抵抗値を有し、かつ均一性、透過率性及び耐熱性に優れた酸化インジウム膜を得る成膜方法を提供する。【構成】Si,Ti,Ge,Sr,Zr、Cd及びBからかる群より選ばれた元素の単体又は化合物の少なくとも一種をInに対して 0.05 〜40原子%を含有する酸化インジウム膜、及び酸素含有雰囲気又はオゾン含有雰囲気中で処理する該酸化インジウム膜の成膜方法。【効果】該方法により、高抵抗な、しかも均一性、透過率性及び耐熱性に優れた酸化インジウム膜を効率的に成膜することが出来る。
請求項(抜粋):
膜中にSi,Ti,Ge,Sr,Zr、Cd及びBからなる群より選ばれた元素の単体又は化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする酸化インジウム膜。
IPC (4件):
C23C 14/08 ,  C03C 17/34 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00 503
引用特許:
審査官引用 (11件)
  • 特開平4-206403
  • 特開昭62-202415
  • 特開平3-249171
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