特許
J-GLOBAL ID：200903006152698775

複数ビーム走査装置および画像形成装置

発明者：
板橋 彰久

板橋 彰久 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-185800
公開番号（公開出願番号）：特開2001-013433
出願日： 1999年06月30日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：
【要約】【課題】複数ビーム走査方式において、ピッチ偏差を軽減させて画像品質の低下を軽減する。【解決手段】複数の発光部11a,12aを有する光源部と、光源部側からの複数の光束を偏向させる偏向器4と、光源部からの複数の発散光束をカップリングして偏向器へ導光し、偏向器により偏向された各ビームを被走査面8上に光スポットとして集光させる結像系13,14,3,5,6とを有し、光源部は、被走査面上に集光する複数の光スポットが、副走査方向に所望の間隔で分離するように構成され、複数の発光部から放射された各光束の射出光軸が、対応するカップリングレンズの光軸に対して、副走査方向に同じ向きの角を持つ。
請求項（抜粋）：
複数の発光部を有する光源部と、該光源部側からの複数の光束を偏向させる偏向器と、上記光源部からの複数の発散光束をカップリングして上記偏向器へ導光し、該偏向器により偏向された各ビームを被走査面上に光スポットとして集光させる結像系とを有し、上記光源部は、上記被走査面上に集光する複数の光スポットが副走査方向に所望の間隔で分離するように構成され、複数の発光部から放射された各光束の射出光軸が、対応するカップリングレンズの光軸に対して、副走査方向に同じ向きの角を持つことを特徴とする複数ビーム走査装置。
IPC (3件)：
G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  H04N 1/113
FI (4件)：
G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 F ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A
Fターム (22件)：
2C362AA42 ,  2C362AA45 ,  2C362AA49 ,  2C362BA58 ,  2C362BA61 ,  2C362BA86 ,  2H045AA01 ,  2H045BA22 ,  2H045BA33 ,  2H045CA33 ,  2H045DA02 ,  5C072AA03 ,  5C072BA03 ,  5C072BA04 ,  5C072BA17 ,  5C072CA06 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA13 ,  5C072HB08 ,  5C072XA01 ,  5C072XA03
引用特許：
審査官引用 (3件)

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