剥離性雰囲気でのインプリントリソグラフィー方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-299291
公開番号（公開出願番号）：特開2003-109915
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月11日
要約：

【要約】【課題】モールド表面にレジスト層付着防止用の剥離性材料を塗布する作業を行うことなく、モールド表面に自動的に剥離性材料を付着可能とする。【解決手段】真空作業室1には、定盤2上に基材移動ステージ3が水平面内に移動自在に配置され、基材移動ステージ3上には基材保持部材4によって、表面にレジスト層5を備えたシリコン基板6を保持している。真空作業室1内にはモールド7を上下動させ、モールド下面の凹凸パターン8をその下方に位置するレジスト層5に押しつけるためのモールド駆動ステージ9を固定している。真空作業室1は排気装置11によって真空にされ、剥離性材料供給装置15から剥離性ガスを供給する。モールド7がレジスト層5から離れているときには、表面の周囲に存在する剥離性材料が付着し、モールド7によるレジスト層5に対する転写を複数回行っても、常にモールド表面に剥離性材料を維持することができる。

請求項（抜粋）：

モールドに形成した凹凸形状を基材表面上のレジスト層に転写するインプリントリソグラフィーを、レジスト層がモールド表面に付着することを防止する剥離性材料の雰囲気中で行うことを特徴とする剥離性雰囲気でのインプリントリソグラフィー方法。

Fターム (1件)：

5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-074623
二次元位相型光学素子の作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-012881 出願人：キヤノン株式会社
特開平2-289311

全件表示

前のページに戻る