特許
J-GLOBAL ID：200903006237601908
はんだボールバンプの形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-064361
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260388
出願日： 1996年03月21日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】 BLM膜上のレジスト膜の残渣を除去し、かつ酸化膜も除去する。【解決手段】 フォトレジストのリフトオフを用いてはんだ層14をパターンニングするはんだ成膜工程を含むはんだボールバンプ15の形成方法において、電極パッド2上にBLM膜4が形成されたウェハ13を準備する工程と、酸素プラズマアッシング処理工程と、不活性ガスによるスパッタエッチング処理工程を含むはんだボールバンプの形成方法。【効果】 BLM4上に残存するスカム6aを除去でき、しかも酸化膜を残さない。
請求項（抜粋）：
フォトレジストのリフトオフを用いてはんだ層をパターニングする際のはんだ成膜工程を含むはんだボールバンプの形成方法において、電極パッド上にBLMが形成されたウェハを準備する工程と、はんだ層形成の成膜前処理として酸素プラズマアッシング処理を行う工程と、この工程に連続して不活性ガスによるスパッタエッチング処理を行う工程を含むことを特徴とするはんだボールバンプの形成方法。
IPC (5件)：
H01L 21/321
, C23F 1/00 104
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
H01L 21/92 604 H
, C23F 1/00 104
, C23F 4/00 A
, H05H 1/46 L
, H05H 1/46 M
, H01L 21/302 C
, H01L 21/302 F
, H01L 21/92 604 C
