特許

J-GLOBAL ID：200903006290765068

プラズマ処理装置

発明者： 角谷 匡規 ,  吉開 元彦 ,  有働 竜二郎 ,  荒井 雅嗣
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (2件)： 小川 勝男 ,  田中 恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-047062
公開番号（公開出願番号）：特開2004-259826
出願日： 2003年02月25日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：

【課題】スループットを向上したプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】処理室の内側に配置された台上に載置された試料を前記処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、前記台がその上部に設けられその上に前記試料と接する第1の部材とこの第1の部材の下方に配置される第2の部材とを有し、前記台の内側に配置されこの台の外周側及び中央側を各々第1及び第2の温度に調節する温度手段と、前記台の表面とこの表面に接する前記試料との間であって前記試料の外周側及び内周側を各々第1及び第2の圧力に調節する圧力調節手段とを備えたプラズマ処理装置。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

処理室の内側に配置された台上に載置された試料を前記処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、 前記台がその上部に設けられその上に前記試料と接する第1の部材とこの第1の部材の下方に配置される第2の部材とを有し、 前記第2の部材の内側に配置され前記台の外周側の温度と中央側の温度とを独立して調節する温度調節手段と、前記第1の部材と前記試料との間であって前記試料の外周側と内周側とに独立して伝熱ガスを供給するガス供給手段とを備えたプラズマ処理装置。

IPC (1件)：

H01L21/3065

FI (1件)：

H01L21/302 101G

Fターム (6件)：

5F004BB18 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004BB29 ,  5F004CA04 ,  5F004CB12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 試料の処理装置及び試料の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-186547   出願人：株式会社日立製作所
• 静電チャックとそれを用いた試料処理方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-254711   出願人：株式会社日立製作所
• プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-370383   出願人：株式会社日立製作所