特許
J-GLOBAL ID:200903040402354990
静電チャックとそれを用いた試料処理方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-254711
公開番号(公開出願番号):特開平10-150100
出願日: 1997年09月19日
公開日(公表日): 1998年06月02日
要約:
【要約】【課題】残留吸着力の非常に少ない静電チャックを得る。【解決手段】極性の異なる一対の電極を有し、電極間に直流電圧を印加して、電極上面に設けられた誘電体膜上に試料を静電的に吸着保持する静電チャックにおいて、電極に印加した直流電圧の供給停止直前の、誘電体膜の吸着部に蓄えられた電荷量を実質的に同一にする。これにより、直流電圧の供給停止後の誘電体膜の吸着部に蓄えられた電荷を、異なる極性の電荷のバランスによって消滅させる。
請求項(抜粋):
極性の異なる一対の電極を有し、前記電極間に直流電圧を印加して、前記電極上面に設けられた誘電体膜上に試料を静電的に吸着保持する静電チャックにおいて、前記電極に印加した直流電圧の供給停止直前の、前記誘電体膜の吸着部に蓄えられた電荷量を実質的に同一にしたことを特徴とする静電チャック。
IPC (3件):
H01L 21/68
, B23Q 3/15
, H02N 13/00
FI (3件):
H01L 21/68 R
, B23Q 3/15 D
, H02N 13/00 D
引用特許:
出願人引用 (4件)
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静電チャック及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-162412
出願人:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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プラズマ処理方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-109813
出願人:日電アネルバ株式会社
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特開平1-312847
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半導体装置の製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-301917
出願人:富士通株式会社
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審査官引用 (4件)